光掩模

上游 · 供给
  • (无)
↓ 光掩模 ↓
本行业 · 光掩模
↓ 输出给下游 ↓
下游 · 输出

行业规模

行业销售总额 · 中国大陆市场 · 按收入 · 亿元 · 年度 · 单位 亿元

最近一期:2024 · 120 亿元

集中度

暂无公开口径:文档已收录本区块,但公开渠道无可溯源点值(见表下注与「口径缺口登记」)。

市占率

2023 · 合计 50.0%

行业企业列表

4 家
展开 4 家企业
公司角色上市备注来源
HOYA(豪雅)空白掩模基板已上市2023 财年全球光学/EUV 空白掩模份额超 50%i
清溢光电光掩模已上市国内规模最大光掩模厂商之一;2024 年营收 11.12 亿元(+20.35%)、石英掩膜版 10.2 亿元、归母净利 1.72 亿元(+28.49%)i
龙图光罩光掩模已上市第三方专业光掩模厂,石英掩模版占营收超 80%;2024 年营收 2.47 亿元(2020-2024 CAGR 46.93%)i
路维光电掩膜版(面板+半导体)SSE:688401路维光电:G11 高世代+半导体石英掩膜版(占 91.6%);2025 年营收 11.55 亿元(+32.0%)、净利率 21.8%i

主流技术路线

按成熟度分组
成熟
  • 常规铬版(Binary)90nm 及以上节点代表:清溢光电—
  • 相移掩模(PSM)65/45nm 广泛使用代表:清溢光电—
  • 不透明钼硅掩模(OMOG)45/32/28nm 标准,搭配 193nm 浸没代表:清溢光电—

新兴技术趋势

验证中 · 早期路线与趋势判断
  • 空白掩模(掩模基板)是国产化最薄弱环节:ArF 基板几乎全部来自 HOYA 与信越,EUV 基板禁运;镀膜设备(ULVAC)与检测(Lasertec)亦依赖日本供应(依据 i)
  • 掩模随技术节点从 Cr 版向 PSM/OMOG 演化,导入周期长、认证壁垒高——判断:国产替代将沿成熟制程掩模先行,先进制程与 EUV 掩模短期难突破
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