思锐智能

Qingdao SRI Intelligent Technology
未上市离子注入机 / ALD

行业布局图

圈选框 = 有布局 · 参评 1 家2/4 层

一、主业情况

思锐智能主营半导体前道工艺设备,早期以 ALD(原子层沉积)设备起家并推进业务转型升级,近年切入离子注入设备并取得突破。产品含 SR11 HEI 高能离子注入机、SR11 HCI 大束流离子注入机、SRII MCI 中束流离子注入机、SRII H 氢离子注入机与碳化硅离子注入机系列;当前出货主要集中于高能与大束流机型,氢离子注入与碳化硅离子注入机已进入验证中。公司已启动上市辅导。公司未上市,财务与股东数据素材未覆盖。

主要产品

口径:中国大陆市场 · 按收入 · 百万元 · 年度
产品定位代表客户来源
SR11 HEI高能离子注入机(当前主推出货机型)——
SR11 HCI大束流离子注入机(当前主推出货机型)——
SRII MCI中束流离子注入机——
SRII H氢离子注入机,验证中——
碳化硅离子注入机SiC 掺杂,验证中——

三、技术情况

220 字 / 上限 500 字

思锐智能从 ALD 设备延伸至离子注入机,产品覆盖高能、大束流、中束流、氢注入与碳化硅注入,当前出货集中于高能与大束流两类;离子注入机核心技术(离子光学、电磁质量分析、高压加速)与 ALD 的等离子体/真空技术底座不同,属跨品类拓展。氢离子注入与碳化硅注入面向功率与第三代半导体掺杂需求,是其后续增量看点。编者判断:公司产品谱系相对完整、已进入高能/大束流出货阶段,但离子注入机验证周期长、国产厂商普遍未盈利,量产一致性与头部晶圆厂导入进度是关键。