上海微电子
Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.未上市成立 2002光刻机
行业布局图
圈选框 = 有布局 · 参评 1 家2/4 层一、主业情况
上海微电子（SMEE）成立于 2002 年，专注光刻机的研发、设计、制造与技术服务，是国内唯一具备前道与后道光刻机整机研制能力的企业 i。产品覆盖 SSX600、SSB800、SSC800 等系列，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层与非关键层的光刻工艺需求，面向 8 寸与 12 寸产线 i。国产光刻机整体国产化率不足 1%（2024，东吴测算），是半导体设备国产化中最难、最晚突破的环节 i。公司未上市，无经审计的公开财报。
主要产品
口径：中国大陆市场 · 按收入 · 百万元 · 年度
| 产品 | 定位 | 代表客户 | 来源 |
|---|---|---|---|
| SSX600 系列步进扫描投影光刻机 | IC 前道 90/110/280nm 关键层与非关键层，可用于 8/12 寸产线 | — | i |
| SSC800（KrF）系列扫描投影光刻机 | 110nm 及以上精细化制程，面向 AI 高性能计算、存储、Micro LED | — | i |
| SSB800 系列光刻机 | 成熟制程光刻设备系列 | — | i |
三、技术情况
385 字 / 上限 500 字上海微电子以步进扫描投影光刻机为核心技术路线：SSX600 采用四倍缩小倍率投影物镜、工艺自适应调焦调平、自减振六自由度工件台掩模台与高速高精运动台技术，覆盖 90/110/280nm 前道光刻 i；SSC800（KrF）系列针对 110nm 及以上制程，在曝光精度、畸变控制与套刻性能上升级，服务 AI 高性能计算、高密度存储（DRAM/NAND）与 Micro LED 等前沿制程 i。核心分系统采取国产协同：双工件台由 华卓精科 配套（DWS 系列使 28nm 光刻机产能提升 42%），全球仅 ASML 与华卓精科实现量产。编者判断：光刻机是设备国产化的最高地，公司覆盖成熟制程（I-line/KrF）整机，但 EUV 与高端 DUV 仍缺位，零部件（光源、物镜、工件台）与整机的协同验证速度决定国产替代节奏。
来源
2 条[SMEE-Official]产品与应用：SSX600/SSB800/SSC800 系列光刻机及公司简介（官方网站）上海微电子装备（集团）股份有限公司 · 2026 · tier-1原文[东吴-2026-02]用户整理2026-02-27 · tier-2