泛林集团

Lam Research Corporation
已上市成立 1980NASDAQ:LRCX刻蚀设备 / 薄膜沉积设备

行业布局图

圈选框 = 有布局 · 参评 1 家2/4 层

一、主业情况

泛林集团是全球领先的半导体晶圆制造设备商,核心产品为等离子体刻蚀与薄膜沉积(CVD/ALD/PVD),并提供清洗等其他前道设备与客户支持服务。公司按「系统设备(Systems)」与「客户支持及相关(Customer support)」两条口径披露收入。FY2026 收入 232.33 亿美元(+26.0%),系统设备 +29.5%,主要受晶圆厂扩产(尤其先进逻辑)驱动 i。存储与先进制程的结构化(3D NAND 高层数、DRAM 沟槽、GAA)持续推高刻蚀/沉积步骤密度,是其长期需求基础。

收入构成(按维度分面)

构成 · 产品/服务类别
FY2026 · 占比合计 100.0%
  • 系统设备(Systems)64.1%148.8 亿美元
  • 客户支持及相关(Customer support)35.9%83.5 亿美元

主要产品

口径:世界市场 · 按收入 · 百万美元 · 年度
产品定位代表客户来源
刻蚀设备(Etch)介质/硅刻蚀,全球龙头,3D 存储与先进逻辑关键—i
薄膜沉积设备(Deposition)CVD/ALD/PVD,与刻蚀并列为前道核心工艺—i
清洗及其他晶圆制造设备前道配套设备—i
客户支持(CSBG)备件、升级与 Reliant 翻新设备—i

二、财务情况

五年一期
金额(百万美元) · 世界市场 · 按收入 · 百万美元 · 年度
比率(%) · 世界市场 · 按收入 · 百分比 · 年度
财务标准表原文
口径:世界市场 · 按收入 · 百万美元 · 年度
期间收入净利润毛利率净利率来源
FY202217,2274,60545.726.7i
FY202317,4294,51144.625.9i
FY202414,9053,82847.325.7i
FY202518,4365,35848.729.1i
FY202623,2337,26550.531.3i

三、技术情况

361 字 / 上限 500 字

泛林集团的技术核心是等离子体刻蚀与薄膜沉积两类前道工艺设备,在 3D 结构加工上壁垒最深:3D NAND 高层数堆叠、DRAM 深沟槽与环绕栅极(GAA)逻辑对刻蚀的深宽比、选择比与均匀性要求急剧提升,公司通过等离子体源、腔室与工艺配方积累形成领先,全球刻蚀设备市占居首 i。除刻蚀与沉积外,公司提供清洗等前道设备,并在客户支持(CSBG)上以备件、升级与 Reliant 翻新设备覆盖存量装机,占收入约 36%、提供周期缓冲 i。FY2026 研发费用 23.76 亿美元、占收入 10.2%。需求侧受 AI 服务器/HBM 驱动,先进逻辑与存储的资本开支上行直接放大刻蚀/沉积步骤数与设备价值量。编者判断:中国区收入占比从 FY2024 的 42% 降至 FY2026 的 34%,出口管制是其区域结构的主要变量。

四、股东情况

按披露期
股东持股备注来源
贝莱德(BlackRock)9.41—i
先锋领航(Vanguard)7.48—i

五、员工情况

员工数(人)· FY2026
研发人员占比(%)

来源

2 条
  • [LRCX10K-FY26]Form 10-K(FY2026,截至 2026-06-28)Lam Research · 2026-08-07 · tier-1原文
  • [LRCXProxy-2026]2026 年度股东大会委托书(DEF 14A,5% 以上受托所有人)Lam Research · 2026-09-24 · tier-1原文