东京电子

Tokyo Electron Limited
已上市成立 1963TSE:8035涂胶显影设备 / 刻蚀设备

行业布局图

圈选框 = 有布局 · 参评 1 家2/4 层

一、主业情况

东京电子(TEL)是全球领先的半导体制造设备商,公司业务单一分部(Semiconductor Production Equipment,SPE),产品覆盖涂胶显影(Coater/Developer)、等离子刻蚀、薄膜沉积(ALD/CVD)、清洗、晶圆键合与量测等前道工序,并以「现场解决方案(Field Solutions,备件/服务/翻新)」提供经常性收入。FY2026(截至 2026-03-31)净销售额 2.44 万亿日元(+0.5%),净利润 5,744 亿日元(+5.6%);海外销售占 90.2% i。AI 服务器带动 DRAM 与先进逻辑投资,是其需求主引擎。

收入构成(按维度分面)

构成 · 产品/服务类别
FY2026 · 占比合计 100.0%
  • 新设备(New Equipment)74.4%1,817,500
  • 现场解决方案(Field Solutions)25.6%626,000

主要产品

口径:世界市场 · 按收入 · 百万日元 · 年度
产品定位代表客户来源
涂胶显影设备(Coater/Developer)光刻工序的涂胶、显影与热处理,与光刻机配套,全球领先—i
等离子刻蚀设备介质/硅刻蚀,先进逻辑与 3D 存储关键—i
薄膜沉积设备(ALD/CVD)前道薄膜工艺—i
清洗/键合/量测设备前道配套与先进封装—i
现场解决方案(Field Solutions)备件、服务、翻新与改造—i

二、财务情况

五年一期
金额(百万日元) · 世界市场 · 按收入 · 百万日元 · 年度
比率(%) · 世界市场 · 按收入 · 百分比 · 年度
财务标准表原文
口径:世界市场 · 按收入 · 百万日元 · 年度
期间收入净利润毛利率净利率来源
FY20222,003,800437,00045.521.8i
FY20232,209,000471,50044.621.3i
FY20241,830,500363,90045.419.9i
FY20252,431,500544,10047.122.4i
FY20262,443,500574,40045.323.5i

三、技术情况

447 字 / 上限 500 字

东京电子以涂胶显影设备(Track)起家并保持全球领先,该设备与光刻机联机作业、直接影响光刻良率,是先进制程的必备环节;公司在干法刻蚀、薄膜沉积(ALD/CVD)、清洗、晶圆键合等前道工序同样具备规模地位,形成「光刻周边 + 刻蚀/沉积」的多元产品矩阵 i。业务为单一报告分部(SPE),现场解决方案(备件/服务/翻新,FY2026 占收入约 26%)提供穿越周期的经常性收入与客户黏性 i。需求侧,DRAM 电容/HBM 互连等存储工艺与先进逻辑是其在刻蚀/沉积上的核心卡位,公司预计 FY2027 新设备销售同比增约 41%,并预告 FY2027 上半年净销售、毛利、营业利润创新高 i。FY2026 研发费用 2,778.66 亿日元、占净销售额 11.4%(FY2025 为 2,500.17 亿、10.3%),持续投向先进制程设备 i。编者判断:单品(光刻周边)护城河深、客户集中度高,存储资本开支周期是其业绩波动的主要来源。

四、股东情况

按披露期
股东持股备注来源
The Master Trust Bank of Japan, Ltd.(信托账户)24.43—i
Custody Bank of Japan, Ltd.(信托账户)10.13—i
TBS HOLDINGS, INC.3.31—i
STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 5050012.53—i

五、员工情况

员工数(人)· FY2026
研发人员占比(%)

来源

4 条
  • [TEL-FY26]FY2026(截至 2026-03-31)合并财务业绩摘要(决算短信)Tokyo Electron · 2026-04-30 · tier-1原文
  • [TEL-FY26-Pres]FY2026 决算说明资料(含五财年销售额/利润与现场解决方案)Tokyo Electron · 2026-04-30 · tier-1原文
  • [TEL-AR2026]2026 年度报告·数据部分(员工数等多年序列)Tokyo Electron · 2026-09 · tier-1原文
  • [TEL-Stock]股票信息·主要股东(截至 2026-03-31)Tokyo Electron · 2026 · tier-1原文